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台积电分享CoWoS先进封装技术进展:良率提升与系统级验证加速

台积电先进封装技术暨服务副总经理何军在一次峰会上透露,已量产的5.5倍光罩尺寸CoWoS先进封装技术在部分产品上可达到99%的良率。此外,该2.5D异构集成方案已在多个AI客户产品上验证了超过98%的稳定良率,并且台积电计划于2029年推出15倍光罩尺寸的超大面积CoWoS。

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根据公开资料,关于先进封装技术的发展和量产进展,台积电方面提供了具体的技术指标和未来规划。在一次OCP APAC峰会上,台积电先进封装技术暨服务副总经理何军分享了公司在CoWoS(Chiplet与Wafer-on-Wafer的结合)先进封装领域取得的进展。

核心技术亮点在于良率的提升。何军表示,台积电已量产的5.5倍光罩尺寸CoWoS先进封装技术,在部分产品上已经达到了99%的良率水平。这标志着该技术的成熟度和可靠性迈上了新的台阶。

进一步来看,2.5D异构集成方案——即5.5倍光罩尺寸CoWoS——已经在多个AI客户的产品中得到了验证,其良率稳定超过了98%。这一数据表明,先进封装技术已经成功应用于关键的、对性能和可靠性要求极高的AI计算领域。

从时间线和发展规划的角度看,台积电展示了清晰的长期路线图。何军提到,台积电未来计划在2029年推出15倍光罩尺寸的超大面积CoWoS技术,这预示着公司对持续扩大封装规模和提升集成密度的战略布局。

从技术的演进趋势来看,先进SoC(System on Chip)的验证过程正在发生关键性的转变。何军指出,先进SoC的验证工作正加速地从传统的器件级测试,向更全面的系统级验证迈进。这意味着芯片的设计和测试流程越来越贴近最终产品的实际运行环境。

背景解释方面,CoWoS作为一种2.5D异构集成方案,其核心价值在于能够将不同功能、由不同工艺制备的芯片(Chiplet)通过先进封装技术进行紧密耦合,从而构建出远超单一晶圆尺寸的计算能力。这对于当前AI算力需求的爆发式增长至关重要。

影响分析方面,良率达到99%和系统级验证加速,直接降低了高密度异构集成方案的成本风险,并增强了客户对台积电先进封装解决方案的信心。稳定的高良率是实现大规模商业化落地的关键前提。

观察点在于,从5.5倍光罩尺寸到未来15倍光罩尺寸的跨越,体现了技术迭代的指数级增长趋势。每一次规模的扩大,都意味着能承载更复杂的计算架构和更多的功能模块。

读者提示:对于关注半导体产业链的朋友而言,理解“器件级”与“系统级”验证的区别至关重要。前者侧重于单个芯片单元的功能测试,而后者则要求整个封装系统在模拟真实工作负载下稳定运行,这代表了技术成熟度的最高层次。

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